[Parallax Occlusion Triplanar Mapping]

지난 POM에 이어서, 경사면에서 POM이 적용된 Material이 왜곡되는게 눈에 밟혀 수정해보고 싶었다.

 

이는 다른 Displacement 등의 깊이 표현시에도 생기는 고질적인 문제인데,

 

POM Decal Crack

평면에서 Uv를 offset하여 경사를 표현하기 때문에 그만큼 Material에 왜곡이 생길 수 밖에 없는것.

 

경사가 덜하면 그만큼 왜곡이 덜하겠지만, 위의 이미지처럼 경사가 격해질경우 눈에 띄는 왜곡이 보인다.

 

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우리는 평면을 착시해 보고있기 때문에, WorldPosition 으로 접근해 해결할 수는 없고,

 

POM의 계산된 픽셀의 WorldPosition을 필요로 하는데,

 

POM 계산시 해당 XY좌표와 Heightmap의 값을 받아 좌표로 가져오자.

 

UE POM MaterialFunction

POM의 적용된 평면의 WorldPosition을 획득했으니 XZ / YZ를 UV삼아 NormalMap R값으로 Blending 해주고,

 

다시 ZNormal을 활용해 기존의 Parallax mapping과 Blending한다.

 

 

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결과

Triplanar가 적용된 POM

적용 전

 

ZNormal에서 블랜딩을 조절해 측면에서 보이는 적용전 Parallax의 값을 조금 낮추고,

 

측면의 UV를 조절하면 조금 더 보기 좋은 결과가 있을듯.

 

측면의 재질을 아주 수정할 수도 있으니, 활용하기 나름인것 같다.